Сверхвысоковакуумный нанотехнический СЗМ-комплекс Nanofab-100

Предназначен для исследования геометрических параметров и физико-химических свойств микро и нанообъектов на поверхности различных образцов (включая полупроводниковые пластины диаметром до 100 мм) методами сканирующей зондовой микроскопии в условиях сверхвысокого вакуума.

Определяющая область применения - микро- и наноэлектроника (в том числе и в производственных условиях).

Основные технические характеристики

Давление остаточной атмосферы в СЗМ камере
5*10-8 Па, объем СЗМ-камеры -21 л
возможность работы в АСМ и СТМ режимах, замена иглы сканирования без напуска атмосферы,
автоматическое позиционирование образцов в диапазоне
100*100 мм
размер образцов
не более 100*15 мм
диапазоны сканирования иглы
3*3*2.6 мкм и 80*80*10 мкм
разрешение в плоскости ХУ
не более 0,15 нм, в плоскости  Z -0,1 нм
возможность отжига образцов в вакууме
Производител
ЗАО “НТ-МДТ”, Россия

Я согласен с условиями обработки персональных данных

Наверх