Фигурная резка (травление фокусированным ионным пучком) поверхности объекта для формирования объемных структур произвольной формы и уровня сложности с разрешением до 70 нм. Энергия ионов варьируется от 100 эВ до 30 кэВ.
Возможность формирования глубоких отверстий с аспектным отношением 1/10. Наличие электронного пучка позволяет проводить травление диэлектрических поверхностей.
Нажимая на кнопку «Отправить заявку», вы соглашаетесь с условиями обработки персональных данных
119421, Москва, ул. Новаторов, 40, корп. 1
© АО НИЦПВ, 2024
Нажимая на кнопку «Отправить заявку», вы соглашаетесь с условиями обработки персональных данных
Нажимая на кнопку «Отправить заявку», вы соглашаетесь с условиями обработки персональных данных