Электронно-ионный микроскоп JIB-4500 c микроманипулятором IB-32010FPUS

Предназначен для управляемого локального травления сфокусированным ионным пучком проводящих и непроводящих объектов с заданным рисунком. В совокупности с микроманипулятором  IB-32010FPUS идеально подходит для оперативной подготовки образцов из выбранной области для исследования в ПЭМ.

Прибор объединяет в себе растровый электронный микроскоп и растровый ионный микроскоп и оснащен системой локального нанесения С и W из газовой фазы. Электронная  пушка - на основе LaB6 эмиттера,  ионная пушка – на основе галлиевого жидкометаллического источника. Электронная пушка - на основе LaB6 эмиттера,  ионная пушка – на основе галлиевого жидкометаллического источника.

Основные технические характеристики

Параметры электронно-оптической системы: разрешение (30кВ, рабочий отрезок 6 мм), нм
2,5 н
Параметры электронно-оптической системы: диапазон увеличений, крат
8-300000
Параметры электронно-оптической системы: диапазон регулировки ускоряющего напряжения, кВ
0,3-30
Параметры ионно-оптической системы: разрешение (30кВ), нм
5 нм
Диапазон измерений линейных размеров, мкм
0,003-50
Параметры ионно-оптической системы: диапазон увеличений, крат 
100-300000
Параметры ионно-оптической системы: диапазон регулировки ускоряющего напряжения, кВ
0,3-30
Производитель
JEOL, Япония

Я согласен с условиями обработки персональных данных

Наверх